Master dataINID | Criterion | Field | Content |
---|
| Type of IP right | SART | Patent |
| Status | ST | Not pending/lapsed |
21 | DE file number | DAKZ | 103 26 223.7 |
54 | Designation/title | TI | Verfahren zur Strukturierung dünner Schichten mittels optischer Lithographie und Anordnung zur Durchführung der optischen Lithographie |
51 | IPC main class | ICM (ICMV) | G03F 7/20 (2006.01) |
22 | DE application date | DAT | Jun 11, 2003 |
43 | Date of first publication | OT | Jan 20, 2005 |
| Date of publication of grant | PET | Jul 31, 2008 |
71/73 | Applicant/owner | INH | Technische Universität Dresden, 01069 Dresden, DE |
72 | Inventor | IN | Steiner, Gerald, Dr.-Ing., 08340 Schwarzenberg, DE; Zimmerer, Cordelia, Dipl.-Chem., 01157 Dresden, DE; Salzer, Reiner, Prof. Dr., 04463 Großpösna, DE |
10 | Published DE documents | DEPN | Original document:
DE000010326223A1 Searchable text:
DE000010326223A1 Original document:
DE000010326223B4 Searchable text:
DE000010326223B4 |
| Address for service | | Technische Universität Dresden Technologietransferstelle der TU Dezernat 5, SG 5.1., 01062 Dresden, DE |
| Patent division in charge | | 51 |
57 | Abstract | AB | Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Strukturierung dünner Schichten mittels optischer Lithographie, bei dem in der Schicht Bereiche mit einer höheren Löslichkeit erzeugt werden, anschließend die Bereiche entwickelt und herausgelöst werden, dadurch gekennzeichnet, dass zur Erhöhung der Löslichkeit die dünne Schicht (6) mit einem optischen Element in Kontakt gebracht wird, in den sichtbares oder ultraviolettes Licht (3) mittels Totalreflexion (4) oder als einzelne Mode geführt wird, wobei sich in der dünnen Schicht (6) strukturgemäß evaneszente Felder (5) ausbilden, die die dünnen Schichten (6) durchdringen, womit eine auf die Ausdehnung des evaneszenten Feldes (5) begrenzte erhöhte Löslichkeit in der dünnen Schicht (6) hervorgerufen wird.$A Eine Anordnung zur Durchführung der optischen Lithographie ist beschrieben. |
56 | Citations | CT |
US000006671034B1 (US 66 71 034 B1)
US000006569575B1 (US 65 69 575 B1)
US000006238826B1 (US 62 38 826 B1)
US020020102475A1 (US2002/01 02 475 A1)
US020010003043A1 (US2001/00 03 043 A1)
JP000H07106229A (JP 07-1 06 229 A)
JP002000021770A (JP 2000-0 21 770 A)
|
43 | Date of first publication | EVT | Jan 20, 2005 |
| Number of official communications (office actions) | | 2 |
| Number of responses | | 2 |
| Date of the first transfer into DPMAregister | EREGT | May 26, 2011 |
| Date of the (most recent) update in DPMAregister | REGT | Jan 22, 2016 (Show all update days)(Hide all update days)- Jan 22, 2016; Jan 25, 2013; Apr 12, 2012; Feb 23, 2012; Feb 22, 2012; Nov 19, 2011; Nov 18, 2011; Oct 12, 2011; Oct 4, 2011; Jul 18, 2011; Jul 9, 2011
- Historical data not available for this/these date(s)
- May 26, 2011
- Date of the first transfer into DPMAregister
|