Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 103 26 223.7 (Status: nicht anhängig/erloschen, Stand am: 23. April 2024)

Stammdaten
INIDKriteriumFeldInhalt
SchutzrechtsartSARTPatent
StatusSTNicht anhängig/erloschen
21Aktenzeichen DEDAKZ103 26 223.7
54Bezeichnung/TitelTIVerfahren zur Strukturierung dünner Schichten mittels optischer Lithographie und Anordnung zur Durchführung der optischen Lithographie
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)		 G03F 7/20 (2006.01)
22Anmeldetag DEDAT11.06.2003
43OffenlegungstagOT20.01.2005
Veröffentlichungstag der ErteilungPET31.07.2008
71/73Anmelder/InhaberINHTechnische Universität Dresden, 01069 Dresden, DE
72ErfinderINSteiner, Gerald, Dr.-Ing., 08340 Schwarzenberg, DE; Zimmerer, Cordelia, Dipl.-Chem., 01157 Dresden, DE; Salzer, Reiner, Prof. Dr., 04463 Großpösna, DE
10Veröffentlichte DE-DokumenteDEPNOriginaldokument: DE000010326223A1
Recherchierbarer Text: DE000010326223A1
Originaldokument: DE000010326223B4
Recherchierbarer Text: DE000010326223B4
Zustellanschrift Technische Universität Dresden Technologietransferstelle der TU Dezernat 5, SG 5.1., 01062 Dresden, DE
Zuständige Patentabteilung 51
57ZusammenfassungABDie Erfindung betrifft ein Verfahren zur Strukturierung dünner Schichten mittels optischer Lithographie, bei dem in der Schicht Bereiche mit einer höheren Löslichkeit erzeugt werden, anschließend die Bereiche entwickelt und herausgelöst werden, dadurch gekennzeichnet, dass zur Erhöhung der Löslichkeit die dünne Schicht (6) mit einem optischen Element in Kontakt gebracht wird, in den sichtbares oder ultraviolettes Licht (3) mittels Totalreflexion (4) oder als einzelne Mode geführt wird, wobei sich in der dünnen Schicht (6) strukturgemäß evaneszente Felder (5) ausbilden, die die dünnen Schichten (6) durchdringen, womit eine auf die Ausdehnung des evaneszenten Feldes (5) begrenzte erhöhte Löslichkeit in der dünnen Schicht (6) hervorgerufen wird.$A Eine Anordnung zur Durchführung der optischen Lithographie ist beschrieben.
56Entgegenhaltungen/ZitateCT US000006671034B1 (US 66 71 034 B1)
US000006569575B1 (US 65 69 575 B1)
US000006238826B1 (US 62 38 826 B1)
US020020102475A1 (US2002/01 02 475 A1)
US020010003043A1 (US2001/00 03 043 A1)
JP000H07106229A (JP 07-1 06 229 A)
JP002000021770A (JP 2000-0 21 770 A)
43ErstveröffentlichungstagEVT20.01.2005
Anzahl der Bescheide 2
Anzahl der Erwiderungen 2
Erstmalige Übernahme in DPMAregisterEREGT26.05.2011
Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregisterREGT22.01.2016
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)26.05.2011; 09.07.2011; 18.07.2011; 04.10.2011; 12.10.2011; 18.11.2011; 19.11.2011; 22.02.2012; 23.02.2012; 12.04.2012; 25.01.2013; 22.01.2016
Verfahrensdaten
Nr. Verfahrensart Verfahrensstand Verfahrensstandstag Verfahrensstandstag aufsteigend sortiert Erstveröffentlichungstag Alle Details anzeigen
1 Vorverfahren Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung 11.06.2003   Details anzeigen
2 Prüfungsverfahren Prüfungsantrag wirksam gestellt 01.07.2003   Details anzeigen
3 Vorverfahren Das Vorverfahren ist abgeschlossen 25.07.2003   Details anzeigen
4 Publikationen Offenlegungsschrift 20.01.2005 20.01.2005 Details anzeigen
5 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 17.10.2005   Details anzeigen
6 Prüfungsverfahren Erwiderung auf Prüfungsbescheid 15.09.2007   Details anzeigen
7 Prüfungsverfahren Erteilungsbeschluss durch Prüfungsstelle/Patentabteilung 10.03.2008   Details anzeigen
8 Publikationen Patentschrift 31.07.2008 31.07.2008 Details anzeigen
9 Prüfungsverfahren Patent rechtskräftig erteilt 31.10.2008 29.01.2009 Details anzeigen
10 Verwaltungsverfahren Die Anmeldung gilt als zurückgenommen wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr/das Schutzrecht ist wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr erloschen 03.01.2012 12.04.2012 Details anzeigen