Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 11 2016 007 667.3 (Status: anhängig/in Kraft, Stand am: 4. August 2025)

Stammdaten
INIDKriteriumFeldInhalt
SchutzrechtsartSARTPatent
StatusSTAnhängig/in Kraft
21Aktenzeichen DEDAKZ11 2016 007 667.3
54Bezeichnung/TitelTIHalbleiterstruktur und Prozess
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)
H10D 30/01 (2025.01)
51IPC-Nebenklasse(n)ICS
(ICSV)
H10D 64/01 (2025.01)
22Anmeldetag DEDAT06.05.2016
43OffenlegungstagOT14.12.2017
71/73Anmelder/InhaberINHAdeia Semiconductor Solutions LLC, San Jose, CA, US
72ErfinderINKanakasabapathy, Sivananda K., Albany, N.Y., US; Lie, Fee Li, Albany, N.Y., US; Karve, Gauri, Albany, N.Y., US; Seo, Soon-Cheon, Albany, N.Y., US; Sieg, Stuart, Albany, N.Y., US; He, Hong, Hopewell Junction, N.Y., US; Liu, Derrick, Albany, N.Y., US; Doris, Bruce, Yorktown Heights, N.Y., US
74VertreterVTRGrünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB, 80802 München, DE
Zustellanschrift Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB, 80802 München, DE
33
31
32
Ausländische PrioritätPRC
PRNA
PRDA
US
14/719,829
22.05.2015
FälligkeitFT
FG
31.05.2026
Jahresgebühr für das 11. Jahr Gebühren für Patentschutz
Zuständige Patentabteilung 33
62Teilung/Ausscheidung aus AKZTAAKZ11 2016 001 414.7
57ZusammenfassungABA semiconductor structure is provided that includes a semiconductor fin portion (14P) having an end wall (15W) and extending upward from a substrate (10). A gate structure (16) straddles a portion of the semiconductor fin portion (14P). A first set of gate spacers (24P/50P) is located on opposing sidewall surfaces of the gate structure (16L/16R); and a second set of gate spacers (32P) is located on sidewalls of the first set of gate spacers (24P/50P). One gate spacer of the second set of spacers (32P) has a lower portion that directly contacts the end wall (15W) of the semiconductor fin portion (14P).
81Bestimmungsstaaten WOWDSAE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
43ErstveröffentlichungstagEVT16.11.2023
Anzahl der Bescheide 0
Anzahl der Erwiderungen 0
Erstmalige Übernahme in DPMAregisterEREGT16.11.2023
Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregisterREGT12.06.2025
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)
  • 12.06.2025
    • Fälligkeit: geändert
  • 10.06.2025
    • St.36: geändert (technische Änderung)
  • 20.12.2024
    • Verfahren: Anmelder-/Inhaberänderung, Anmelder-/Inhaberänderung, 25.11.2024: geändert
    • Verfahren: Klassifikationsänderung, Klassifikationsänderung - Hauptklasse, 22.11.2024: geändert
  • 26.11.2024
    • IPC-Hauptklasse: geändert
    • IPC-Nebenklasse(n): geändert
    • Anmelder/Inhaber: geändert
    • Verfahren: Anmelder-/Inhaberänderung, Anmelder-/Inhaberänderung, 25.11.2024: neu
    • Verfahren: Klassifikationsänderung, Klassifikationsänderung - Hauptklasse, 22.11.2024: neu
  • 12.11.2024
    • St.36: geändert (technische Änderung)
  • 08.06.2024; 07.03.2024; 05.01.2024
    • Historiendaten für diese(n) Zeitpunkt(e) nicht vorhanden
  • 16.11.2023
    • Erstmalige Übernahme in DPMAregister
Verfahrensdaten
Nr.VerfahrensartVerfahrensstandVerfahrensstandstagVeröffentlichungsdatumAlle Details anzeigen
1 Vorverfahren Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung 05.10.2023  Details anzeigen
2 Verwaltungsverfahren Ausscheidungs- oder Teilungsanmeldung 05.10.2023 16.11.2023 Details anzeigen
3 Prüfungsverfahren Prüfungsantrag wirksam gestellt 18.12.2023  Details anzeigen
4 Vorverfahren Das Vorverfahren ist abgeschlossen 06.03.2024  Details anzeigen
5 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 22.11.2024 02.01.2025 Details anzeigen
6 Anmelder-/Inhaberänderung Änderung des Anmelders/Inhabers 25.11.2024 02.01.2025 Details anzeigen
Verfahrensansicht Vorverfahren (Nr.: 1)
INIDKriteriumFeldInhalt Details schließen
VerfahrensartVARTVorverfahren
VerfahrensstandVSTDie Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung
VerfahrensstandstagVSTT05.10.2023
Tag der Aktualisierung des VerfahrensREGT16.11.2023
Verfahrensansicht Verwaltungsverfahren (Nr.: 2)
INIDKriteriumFeldInhalt Details schließen
VerfahrensartVARTVerwaltungsverfahren
VerfahrensstandVSTAusscheidungs- oder Teilungsanmeldung
VerfahrensstandstagVSTT05.10.2023
HeftnummerHN46
JahrPJ2023
VeröffentlichungsdatumVT16.11.2023
PublikationsartPARTBibliografiedaten
TeilHTTeil 2
Tag der Aktualisierung des VerfahrensREGT16.11.2023
Verfahrensansicht Prüfungsverfahren (Nr.: 3)
INIDKriteriumFeldInhalt Details schließen
VerfahrensartVARTPrüfungsverfahren
VerfahrensstandVSTPrüfungsantrag wirksam gestellt
VerfahrensstandstagVSTT18.12.2023
Antrag Dritter Nein
EingangstagAEGT24.10.2017
Tag der Aktualisierung des VerfahrensREGT05.01.2024
Verfahrensansicht Vorverfahren (Nr.: 4)
INIDKriteriumFeldInhalt Details schließen
VerfahrensartVARTVorverfahren
VerfahrensstandVSTDas Vorverfahren ist abgeschlossen
VerfahrensstandstagVSTT06.03.2024
Tag der Aktualisierung des VerfahrensREGT07.03.2024
Verfahrensansicht Klassifikationsänderung (Nr.: 5)
INIDKriteriumFeldInhalt Details schließen
VerfahrensartVARTKlassifikationsänderung
VerfahrensstandVSTÄnderung der IPC-Hauptklasse
VerfahrensstandstagVSTT22.11.2024
HeftnummerHN1
JahrPJ2025
VeröffentlichungsdatumVT02.01.2025
PublikationsartPARTBibliografiedaten
TeilHTTeil 2
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)
H10D 30/01 (2025.01)
51Frühere IPC-HauptklasseICMF
(ICMVF)
H01L 21/336 (2006.01)
Tag der Aktualisierung des VerfahrensREGT20.12.2024
Verfahrensansicht Anmelder-/Inhaberänderung (Nr.: 6)
INIDKriteriumFeldInhalt Details schließen
VerfahrensartVARTAnmelder-/Inhaberänderung
VerfahrensstandVSTÄnderung des Anmelders/Inhabers
VerfahrensstandstagVSTT25.11.2024
HeftnummerHN1
JahrPJ2025
VeröffentlichungsdatumVT02.01.2025
PublikationsartPARTBibliografiedaten
TeilHTTeil 2
71/73Anmelder/InhaberINHAdeia Semiconductor Solutions LLC, San Jose, CA, US
71/73Früherer Anmelder/InhaberINHFTessera, Inc., San Jose, Calif., US
Tag der Aktualisierung des VerfahrensREGT20.12.2024