DPMAregister | Patente - ST.27-Rechtsstandsdaten

ST.27-Rechtsstandsdaten

Die nachfolgend angezeigten Rechtsstandsinformationen basieren auf dem WIPO Standard ST.27 und sind rein informativ. Verbindliche Informationen zum Status des Schutzrechts sind nur über die Detailansicht im DPMAregister verfügbar. Dem WIPO Standard ST.27 entsprechend erfolgt die Darstellung der Inhalte nur auf Englisch.

Aktenzeichen DE: 10 2005 046 711.3 (Bezeichnung/Titel: Verfahren zur Herstellung eines vertikalen MOS-Halbleiterbauelementes mit dünner Dielektrikumsschicht und tiefreichenden vertikalen Abschnitten)

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Tabellarische Wiedergabe
Current State: Not active, Current Stage: Termination likely/termination

Key Event History
Nr.	Key Event Code	Key Event Name	Event Date	Effective Date	Publication Date	To Stage
1	A10	Application filed	29.09.2005	29.09.2005		Filing
2	D10	Search and/or examination requested or initiated	29.09.2005	29.09.2005		Examination
3	Q10	Document published	05.04.2007	05.04.2007	05.04.2007	Examination
4	Q10	Document published	27.12.2007	27.12.2007	27.12.2007	Examination
5	F10	IP right granted	27.03.2008	27.03.2008	19.06.2008	Grant
6	H10	IP right ceased	04.04.2018	04.04.2018	05.07.2018	Termination likely/termination

Detailed Event History
Nr.	Detailed Event Code	Detailed Event Name	Event Date	Effective Date	Publication Date	To Stage
1	A10	Application filed	29.09.2005	29.09.2005		Filing
2	D11	Substantive examination requested	29.09.2005	29.09.2005		Examination
3	Q12	Application published	05.04.2007	05.04.2007	05.04.2007	Examination
4	D22	Grant of IP right intended	06.08.2007	06.08.2007		Examination
5	Q13	IP right document published	27.12.2007	27.12.2007	27.12.2007	Examination
6	F11	IP right granted following substantive examination	27.03.2008	27.03.2008	19.06.2008	Grant
7	H13	IP right lapsed	04.04.2018	04.04.2018	05.07.2018	Termination likely/termination

Grafische Wiedergabe

Nachfolgend wird eine vereinfacht grafische Repräsentation der Rechtsstandsinformationen basierend auf dem WIPO Standard ST.27 anhand des dort definierten "Overall Patent/SPC Prosecution Model" wiedergegeben.