Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 102 60 644.7 (Status: nicht anhängig/erloschen, Stand am: 29. April 2024)

Stammdaten
INIDKriteriumFeldInhalt
SchutzrechtsartSARTPatent
StatusSTNicht anhängig/erloschen
21Aktenzeichen DEDAKZ102 60 644.7
54Bezeichnung/TitelTIVerfahren zum Dotieren eines Halbleiterkörpers
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)		 H01L 21/265 (2006.01)
51IPC-Nebenklasse(n)ICS
(ICSV)		 H01L 21/268 (2006.01)
22Anmeldetag DEDAT23.12.2002
43OffenlegungstagOT18.03.2004
Veröffentlichungstag der ErteilungPET18.03.2004
71/73Anmelder/InhaberINHInfineon Technologies AG, 81669 München, DE
72ErfinderINRüb, Michael, Dr., Faak am See, AT
10Veröffentlichte DE-DokumenteDEPNOriginaldokument: DE000010260644B3
Recherchierbarer Text: DE000010260644B3
Zustellanschrift Infineon Technologies AG Intellectual Property, 80506 München, DE
Zuständige Patentabteilung 33
57ZusammenfassungABDie Erfindung betrifft ein Verfahren zum Dotieren eines Halbleiterkörpers (2), bei dem in den zunächst beispielsweise p-dotierten Halbleiterkörper durch Ionenbestrahlung vorzugsweise mit Protonen eine n-Dotierung eingebracht wird, die dann durch Einwirkung eines Laserstrahles (8) in bestimmten Bereichen (9) gelöscht wird, so dass in diesen Bereichen (9) die ursprüngliche p-Dotierung vorliegt.
56Entgegenhaltungen/ZitateCT DE000010025567A1 (DE 100 25 567 A1)
DE000010018371A1 (DE 100 18 371 A1)
43ErstveröffentlichungstagEVT18.03.2004
Anzahl der Bescheide 0
Anzahl der Erwiderungen 0
Erstmalige Übernahme in DPMAregisterEREGT26.05.2011
Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregisterREGT23.09.2020
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)26.05.2011; 18.07.2011; 07.01.2012; 02.03.2012; 08.01.2013; 06.03.2013; 08.01.2014; 26.02.2014; 28.02.2015; 09.01.2016; 20.02.2016; 01.03.2017; 01.03.2018; 01.03.2019; 17.08.2020; 23.09.2020
Verfahrensdaten
Nr. Verfahrensart Verfahrensstand Verfahrensstandstag Verfahrensstandstag aufsteigend sortiert Erstveröffentlichungstag Alle Details anzeigen
1 Vorverfahren Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung 23.12.2002   Details anzeigen
2 Prüfungsverfahren Prüfungsantrag wirksam gestellt 23.12.2002   Details anzeigen
3 Vorverfahren Das Vorverfahren ist abgeschlossen 24.04.2003   Details anzeigen
4 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 30.04.2003   Details anzeigen
5 Prüfungsverfahren Erteilungsbeschluss durch Prüfungsstelle/Patentabteilung 10.10.2003   Details anzeigen
6 Publikationen Patentschrift 18.03.2004 18.03.2004 Details anzeigen
7 Prüfungsverfahren Patent rechtskräftig erteilt 18.06.2004 16.09.2004 Details anzeigen
8 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 17.10.2005   Details anzeigen
9 Verwaltungsverfahren Die Anmeldung gilt als zurückgenommen wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr/das Schutzrecht ist wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr erloschen 01.07.2020 24.09.2020 Details anzeigen