Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 102 60 286.7 (Status: nicht anhängig/erloschen, Stand am: 30. April 2024)

Stammdaten
INIDKriteriumFeldInhalt
SchutzrechtsartSARTPatent
StatusSTNicht anhängig/erloschen
21Aktenzeichen DEDAKZ102 60 286.7
54Bezeichnung/TitelTIVerwendung eines Defekterzeugnungsverfahrens zum Dotieren eines Halbleiterkörpers
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)		 H01L 21/322 (2006.01)
51IPC-Nebenklasse(n)ICS
(ICSV)		 H01L 21/324 (2006.01)
22Anmeldetag DEDAT20.12.2002
43OffenlegungstagOT19.08.2004
Veröffentlichungstag der ErteilungPET06.07.2006
71/73Anmelder/InhaberINHInfineon Technologies AG, 81669 München, DE
72ErfinderINRüb, Michael, Dr., Faak am See, AT; Schulze, Hans-Joachim, Dr., 85521 Ottobrunn, DE; Niedernostheide, Franz-Josef, Dr., 48157 Münster, DE
10Veröffentlichte DE-DokumenteDEPNOriginaldokument: DE000010260286A1
Recherchierbarer Text: DE000010260286A1
Originaldokument: DE000010260286B4
Recherchierbarer Text: DE000010260286B4
Zustellanschrift Infineon Technologies AG Intellectual Property, 80506 München, DE
Zuständige Patentabteilung 33
57ZusammenfassungABDie Erfindung betrifft ein Verfahren zum Dotieren eines Halbleiterkörpers durch Erzeugung von Defekten und Ausbildung von mit Wasserstoff korrelierten Defekt-Komplexen, bei dem zur Erzeugung der Defekte nicht dotierend wirkende Ionen, wie insbesondere Heliumionen, verwendet werden, woran sich eine Behandlung mit Wasserstoff und eine Temperierung anschließen.
56Entgegenhaltungen/ZitateCT DE000010245089A1 (DE 102 45 089 A1)
DE000010025567A1 (DE 100 25 567 A1)
US000006352909B1 (US 63 52 909 B1)
US000006211041B1 (US 62 11 041 B1)
US000005877070A (US 58 77 070 A)
43ErstveröffentlichungstagEVT19.08.2004
Anzahl der Bescheide 4
Anzahl der Erwiderungen 4
Erstmalige Übernahme in DPMAregisterEREGT26.05.2011
Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregisterREGT26.09.2019
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)26.05.2011; 17.07.2011; 07.01.2012; 02.03.2012; 08.01.2013; 06.03.2013; 08.01.2014; 26.02.2014; 28.02.2015; 09.01.2016; 20.02.2016; 01.03.2017; 01.03.2018; 20.08.2019; 26.09.2019
Verfahrensdaten
Nr. Verfahrensart Verfahrensstand Verfahrensstandstag Verfahrensstandstag aufsteigend sortiert Erstveröffentlichungstag Alle Details anzeigen
1 Vorverfahren Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung 20.12.2002   Details anzeigen
2 Prüfungsverfahren Prüfungsantrag wirksam gestellt 20.12.2002   Details anzeigen
3 Vorverfahren Das Vorverfahren ist abgeschlossen 23.04.2003   Details anzeigen
4 Publikationen Offenlegungsschrift 19.08.2004 19.08.2004 Details anzeigen
5 Prüfungsverfahren Erwiderung auf Prüfungsbescheid 04.10.2005   Details anzeigen
6 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 17.10.2005   Details anzeigen
7 Prüfungsverfahren Erteilungsbeschluss durch Prüfungsstelle/Patentabteilung 16.01.2006   Details anzeigen
8 Publikationen Patentschrift 06.07.2006 06.07.2006 Details anzeigen
9 Prüfungsverfahren Patent rechtskräftig erteilt 06.10.2006 04.01.2007 Details anzeigen
10 Verwaltungsverfahren Die Anmeldung gilt als zurückgenommen wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr/das Schutzrecht ist wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr erloschen 02.07.2019 26.09.2019 Details anzeigen