Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 102 39 580.2 (Status: nicht anhängig/erloschen, Stand am: 29. April 2024)

Stammdaten
INIDKriteriumFeldInhalt
SchutzrechtsartSARTPatent
StatusSTNicht anhängig/erloschen
21Aktenzeichen DEDAKZ102 39 580.2
54Bezeichnung/TitelTIVerfahren zum Ausbilden eines Kompensationsgebiets und Verwendung des Verfahrens zur Herstellung eines Kompensationshalbleiterbauelements
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)		 H01L 21/336 (2006.01)
51IPC-Nebenklasse(n)ICS
(ICSV)		 H01L 21/328 (2006.01), H01L 29/06 (2006.01)
22Anmeldetag DEDAT28.08.2002
43OffenlegungstagOT18.03.2004
Veröffentlichungstag der ErteilungPET26.01.2006
71/73Anmelder/InhaberINHInfineon Technologies AG, 81669 München, DE
72ErfinderINRüb, Michael, Dr., Faak am See, AT
10Veröffentlichte DE-DokumenteDEPNOriginaldokument: DE000010239580A1
Recherchierbarer Text: DE000010239580A1
Originaldokument: DE000010239580B4
Recherchierbarer Text: DE000010239580B4
Zustellanschrift Infineon Technologies AG Intellectual Property, 80506 München, DE
Zuständige Patentabteilung 33
57ZusammenfassungABUm ein Kompensationsgebiet (30) für ein Kompensationshalbleiterbauelement (10) auf besonders einfache Art und Weise und doch wohldefiniert und zuverlässig herstellen zu können, wird vorgeschlagen, primäre Dotierstoffdepots (31, 32, 33) zueinander lateral versetzt in einem ersten Bereich (21) eines Halbleitermaterialbereichs (20) auszubilden und dann nachfolgend durch Ausdiffundieren über eine entsprechende Überlagerung daraus entstehender sekundärer Dotierstoffdepots (31', 32', 33') in das entsprechende Kompensationsgebiet (30) in zusammenhängender Form derart auszubilden, dass sich das Kompensationsgebiet (30) zumindest zum Teil lateral erstreckt.
56Entgegenhaltungen/ZitateCT DE000010008570A1 (DE 100 08 570 A1)
43ErstveröffentlichungstagEVT18.03.2004
Anzahl der Bescheide 2
Anzahl der Erwiderungen 2
Erstmalige Übernahme in DPMAregisterEREGT26.05.2011
Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregisterREGT04.06.2020
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)26.05.2011; 18.07.2011; 06.09.2011; 28.10.2011; 04.01.2012; 05.09.2012; 20.10.2012; 24.01.2013; 10.09.2013; 30.10.2013; 10.09.2014; 06.11.2014; 09.09.2015; 05.11.2015; 29.10.2016; 18.10.2017; 09.11.2018; 28.04.2020; 04.06.2020
Verfahrensdaten
Nr. Verfahrensart Verfahrensstand Verfahrensstandstag Verfahrensstandstag aufsteigend sortiert Erstveröffentlichungstag Alle Details anzeigen
1 Vorverfahren Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung 28.08.2002   Details anzeigen
2 Prüfungsverfahren Prüfungsantrag wirksam gestellt 28.08.2002   Details anzeigen
3 Vorverfahren Das Vorverfahren ist abgeschlossen 09.01.2003   Details anzeigen
4 Prüfungsverfahren Erwiderung auf Prüfungsbescheid 30.01.2004   Details anzeigen
5 Publikationen Offenlegungsschrift 18.03.2004 18.03.2004 Details anzeigen
6 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 27.07.2005   Details anzeigen
7 Prüfungsverfahren Erteilungsbeschluss durch Prüfungsstelle/Patentabteilung 12.08.2005   Details anzeigen
8 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 17.10.2005   Details anzeigen
9 Publikationen Patentschrift 26.01.2006 26.01.2006 Details anzeigen
10 Prüfungsverfahren Patent rechtskräftig erteilt 26.04.2006 20.07.2006 Details anzeigen
11 Verwaltungsverfahren Die Anmeldung gilt als zurückgenommen wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr/das Schutzrecht ist wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr erloschen 03.03.2020 04.06.2020 Details anzeigen