Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 10 2009 047 808.6 (Status: anhängig/in Kraft, Stand am: 16. Mai 2024)

Stammdaten
INIDKriteriumFeldInhalt
SchutzrechtsartSARTPatent
StatusSTAnhängig/in Kraft
21Aktenzeichen DEDAKZ10 2009 047 808.6
54Bezeichnung/TitelTIBipolares Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterdiode
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)		 H01L 29/861 (2006.01)
51IPC-Nebenklasse(n)ICS
(ICSV)		 H01L 29/06 (2006.01), H01L 21/329 (2006.01)
22Anmeldetag DEDAT30.09.2009
43OffenlegungstagOT05.05.2011
Veröffentlichungstag der ErteilungPET25.01.2018
71/73Anmelder/InhaberINHInfineon Technologies Austria AG, Villach, AT
72ErfinderINBaburske, Roman, 09112 Chemnitz, DE; Lutz, Josef, 09126 Chemnitz, DE; Schulze, Hans-Joachim, 82024 Taufkirchen, DE; Siemieniec, Ralf, Villach, AT
10Veröffentlichte DE-DokumenteDEPNOriginaldokument: DE102009047808A1
Recherchierbarer Text: DE102009047808A1
Originaldokument: DE102009047808B4
Recherchierbarer Text: DE102009047808B4
Zustellanschrift Intellectual Property Infineon Technologies AG, 80506 München, DE
FälligkeitFT
FG		30.09.2024
Jahresgebühr für das 16. Jahr Gebühren für Patentschutz
Zuständige Patentabteilung 33
57ZusammenfassungABBipolares Halbleiterbauelement 100, insbesondere Diode, mit einer Anodenstruktur, die ihren Emitterwirkungsgrad in Abhängigkeit von der Stromdichte derart steuert, dass er bei kleinen Stromdichten klein ist und bei großen Stromdichten ausreichend groß, und einer optionalen Kathodenstruktur, die beim Kommutieren zusätzliche Löcher injizieren kann, sowie Herstellungsverfahren dafür.
56Entgegenhaltungen/ZitateCT DE102008023471A1 (DE 10 2008 023 471 A1)
DE102004053761A1 (DE 10 2004 053 761 A1)
US000004641174A (US 4 641 174 A)
EP000001515372A1 (EP 1 515 372 A1)
DE000010361136B4 (DE 103 61 136 B4)
JP002007281231A (JP 2007- 281 231 A)
43ErstveröffentlichungstagEVT05.05.2011
Anzahl der Bescheide 3
Anzahl der Erwiderungen 3
Erstmalige Übernahme in DPMAregisterEREGT27.05.2011
Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregisterREGT01.12.2023
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)27.05.2011; 31.05.2011; 19.07.2011; 05.10.2011; 26.11.2011; 27.01.2012; 09.10.2012; 23.11.2012; 13.02.2013; 08.10.2013; 29.11.2013; 23.02.2014; 02.03.2014; 02.12.2014; 11.03.2015; 03.12.2015; 27.01.2016; 27.11.2016; 23.12.2016; 22.02.2017; 24.05.2017; 15.06.2017; 12.08.2017; 13.09.2017; 05.10.2017; 09.12.2017; 29.12.2017; 03.01.2018; 25.01.2018; 24.11.2018; 06.12.2018; 03.01.2019; 12.01.2019; 28.11.2019; 08.12.2020; 23.07.2021; 24.11.2021; 24.11.2022; 01.12.2023
Verfahrensdaten
Nr. Verfahrensart Verfahrensstand Verfahrensstandstag Verfahrensstandstag aufsteigend sortiert Erstveröffentlichungstag Alle Details anzeigen
1 Vorverfahren Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung 30.09.2009   Details anzeigen
2 Prüfungsverfahren Prüfungsantrag wirksam gestellt 30.09.2009   Details anzeigen
3 Vorverfahren Das Vorverfahren ist abgeschlossen 15.03.2010   Details anzeigen
4 Prüfungsverfahren Erwiderung auf Prüfungsbescheid 29.12.2010   Details anzeigen
5 Publikationen Offenlegungsschrift 05.05.2011 05.05.2011 Details anzeigen
6 Prüfungsverfahren Prüfungsbescheid 21.02.2017   Details anzeigen
7 Prüfungsverfahren Erwiderung auf Prüfungsbescheid 16.05.2017   Details anzeigen
8 Prüfungsverfahren Prüfungsbescheid 14.06.2017   Details anzeigen
9 Prüfungsverfahren Erwiderung auf Prüfungsbescheid 10.08.2017   Details anzeigen
10 Prüfungsverfahren Erteilungsbeschluss durch Prüfungsstelle/Patentabteilung 04.10.2017   Details anzeigen
11 Publikationen Patentschrift 25.01.2018 25.01.2018 Details anzeigen
12 Prüfungsverfahren Patent rechtskräftig erteilt 26.10.2018 03.01.2019 Details anzeigen
13 Vertreteränderung Änderung des Vertreters 11.01.2019   Details anzeigen