Stammdaten| INID | Kriterium | Feld | Inhalt |
|---|
| Schutzrechtsart | SART | Patent |
| Status | ST | Nicht anhängig/erloschen |
| 21 | Aktenzeichen DE | DAKZ | 10 2008 013 066.4 |
| 54 | Bezeichnung/Titel | TI | Vorrichtung zur zweidimensionalen Abbildung von Szenen durch Mikrowellen-Abtastung und Verwendung der Vorrichtung |
| 51 | IPC-Hauptklasse | ICM
(ICMV) | H01Q 3/12 (2006.01) |
| 51 | IPC-Nebenklasse(n) | ICS
(ICSV) | H01Q 19/19 (2006.01), G01S 13/89 (2006.01) |
| 22 | Anmeldetag DE | DAT | 06.03.2008 |
| 43 | Offenlegungstag | OT | 01.10.2009 |
| Veröffentlichungstag der Erteilung | PET | 01.10.2009 |
| 71/73 | Anmelder/Inhaber | INH | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V., 51147 Köln, DE |
| 72 | Erfinder | IN | Peichl, Markus, Dr., 82131 Gauting, DE; Dill, Stephan, 80339 München, DE; Jirousek, Matthias, 82319 Starnberg, DE; Berthel, Dominik, 97357 Prichsenstadt, DE |
| 74 | Vertreter | VTR | dompatent von Kreisler Selting Werner - Partnerschaft von Patentanwälten und Rechtsanwälten mbB, 50667 Köln, DE |
| 10 | Veröffentlichte DE-Dokumente | DEPN | Originaldokument:
DE102008013066B3
Recherchierbarer Text:
DE102008013066B3 |
| Zustellanschrift | | dompatent von Kreisler Selting Werner - Partnerschaft von Patentanwälten und Rechtsanwälten mbB, 50667 Köln, DE |
| Lizenz | LIZ | Gefördertes Vorhaben |
| Förderkennzeichen | FOEZ | Förderkennzeichen vorhanden |
| Zuständige Patentabteilung | | 55 |
| 57 | Zusammenfassung | AB | Zur zweidimensionalen Szenenabbildung durch kontinuierliche, passive oder aktive Mikrowellen-Abtastung dient eine vollmechanische Richtantennenanordnung mit Hauptreflektor (1), Primärstrahleranordnung (3) und einem relativ zum Hauptreflektor klein bemessenen Subreflektor (2), der bezüglich der optischen Achse (7) der Richtantennenanordnung geneigt ist. Erste Antriebsmittel (8) sorgen für eine Rotation des Subreflektors um die optische Achse und zweite Antriebsmittel (17, 18) für eine Bewegung der gesamten Richtantennenanordnung in einer Richtung zumindest angenähert senkrecht zur optischen Achse. Die Bewegungsgeschwindigkeit des Subreflektors ist zu derjenigen der gesamten Richtantennenanordnung sehr hoch. Hauptreflektorform, Subreflektorform, Primärstrahler, Abstand Primärstrahler-Subreflektor und Abstand Subreflektor-Hauptreflektor sind als Fokussierungsparameter so aufeinander abgestimmt, dass sich für einen bestimmten Szenenabstand eine optimale Fokussierung und Gesichtsfeldgröße einstellt. Die Fokussierungsparameter und die Bewegungsgeschwindigkeiten der beiden Antriebsmittel sind so eingestellt, dass sich eine lückenlose kontinuierliche Szenenabtastung durch den sich im Szenenabstand bewegenden Fokussierungsfleck (12) ergibt.$A Anwendung bei Fernerkundung, insbesondere Erdbeobachtung und Sicherheitstechnik. |
| 56 | Entgegenhaltungen/Zitate | CT |
US000006943742B2 (US 69 43 742 B2)
EP000000514886A1 (EP 05 14 886 A1)
EP000000002982A1 (EP 00 02 982 A1)
WO002007028472A1 (WO 2007/0 28 472 A1)
WO002005085903A1 (WO 2005/0 85 903 A1)
WO002005017559A2 (WO 2005/0 17 559 A2)
|
| 56 | Entgegenhaltungen/Zitate NPL | CTNP | MARTIN, C.A. et al.: High-resolution passive millimeter-wave security screening using few amplifiers. In: Proc. SPIE, Vol. 6548, 654806 (2007), S. 1-10 |
| 43 | Erstveröffentlichungstag | EVT | 01.10.2009 |
| Anzahl der Bescheide | | 1 |
| Anzahl der Erwiderungen | | 1 |
| Erstmalige Übernahme in DPMAregister | EREGT | 27.05.2011 |
| Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregister | REGT | 24.12.2019
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)27.05.2011; 20.07.2011; 07.04.2012; 12.04.2012; 19.04.2012; 27.04.2012; 01.02.2013; 09.04.2013; 23.04.2013; 01.03.2014; 08.04.2014; 17.04.2014; 07.04.2015; 21.04.2015; 14.04.2016; 08.04.2017; 14.04.2017; 21.03.2018; 16.11.2019; 24.12.2019 |
