Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 10 2006 048 000.7 (Status: nicht anhängig/erloschen, Stand am: 14. Mai 2024)

Stammdaten
INIDKriteriumFeldInhalt
SchutzrechtsartSARTPatent
StatusSTNicht anhängig/erloschen
21Aktenzeichen DEDAKZ10 2006 048 000.7
54Bezeichnung/TitelTIVerfahren zur Herstellung eines zweiphasigen Schichtwerkstoffs
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)		 C23C 16/08 (2006.01)
51IPC-Nebenklasse(n)ICS
(ICSV)		 C23C 16/503 (2006.01)
22Anmeldetag DEDAT09.10.2006
43OffenlegungstagOT10.04.2008
71/73Anmelder/InhaberINHLeibniz-Institut für Neue Materialien gem. GmbH, 66123 Saarbrücken, DE
72ErfinderINKuhn, Patrick, 66701 Beckingen, DE; Mathur, Sanjay, Prof., 66125 Saarbrücken, DE
74VertreterVTRPatentanwaltskanzlei Vièl & Wieske, 66119 Saarbrücken, DE
10Veröffentlichte DE-DokumenteDEPNOriginaldokument: DE102006048000A1
Recherchierbarer Text: DE102006048000A1
Zustellanschrift Patentanwaltskanzlei Vièl & Wieske, 66143 Saarbrücken, DE
Zuständige Patentabteilung 45
57ZusammenfassungABDie Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines zweiphasigen Schichtwerkstoffs durch Schichtabscheidung im plasmaunterstützten CVD-Verfahren.$A Um einen zweiphasigen Schichtwerkstoff mit System Titan-Stickstoff-Sauerstoff herzustellen, wird im Rahmen der Erfindung vorgeschlagen, dass ein metallisches Substrat auf einer Kathode angeordnet wird und eine Titanquelle in eine Wasserstoff-Argon-Stickstoff-Atomsphäre zugegeben wird.$A In dem erfindungsgemäßen Verfahren wird der zweiphasige Schichtwerkstoff in Form von nanokristallinen Titannitrid-Ausscheidungen in einer amorphen Titanoxid-Matrix durch Zugabe von Titanisopropylat in eine Wasserstoff-Argon-Stickstoff-Atmosphäre unter Verwendung einer gepulsten Gleichstrom-Glimmentladung hergestellt.$A Darüber hinaus ist es möglich, die Schichteigenschaften gezielt einzustellen.
43ErstveröffentlichungstagEVT10.04.2008
Anzahl der Bescheide 1
Anzahl der Erwiderungen 0
Erstmalige Übernahme in DPMAregisterEREGT26.05.2011
Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregisterREGT29.01.2013
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)26.05.2011; 01.05.2012; 29.01.2013
Verfahrensdaten
Nr. Verfahrensart Verfahrensstand Verfahrensstandstag Verfahrensstandstag aufsteigend sortiert Erstveröffentlichungstag Alle Details anzeigen
1 Vorverfahren Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung 09.10.2006   Details anzeigen
2 Prüfungsverfahren Prüfungsantrag wirksam gestellt 30.10.2006   Details anzeigen
3 Vorverfahren Das Vorverfahren ist abgeschlossen 25.01.2007   Details anzeigen
4 Publikationen Offenlegungsschrift 10.04.2008 10.04.2008 Details anzeigen
5 Prüfungsverfahren Zurückweisungsbeschluss im Prüfungs-/Schutzzertifikats-/Eintragungsverfahren 20.01.2009   Details anzeigen
6 Prüfungsverfahren Rechtskraft des Zurückweisungsbeschlusses 21.02.2009 20.05.2009 Details anzeigen