Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 10 2006 046 845.7 (Status: anhängig/in Kraft, Stand am: 15. Mai 2024)

Treffer 1/1

Stammdaten
INID	Kriterium	Feld	Inhalt
	Schutzrechtsart	SART	Patent
	Status	ST	Anhängig/in Kraft
21	Aktenzeichen DE	DAKZ	10 2006 046 845.7
54	Bezeichnung/Titel	TI	Halbleiterbauelement mit verbesserter Robustheit
51	IPC-Hauptklasse	ICM (ICMV)	H01L 29/06 (2006.01)
51	IPC-Nebenklasse(n)	ICS (ICSV)	H01L 29/861 (2006.01), H01L 29/739 (2006.01), H01L 29/74 (2006.01), H01L 29/78 (2006.01)
22	Anmeldetag DE	DAT	02.10.2006
43	Offenlegungstag	OT	03.04.2008
	Veröffentlichungstag der Erteilung	PET	05.12.2013
71/73	Anmelder/Inhaber	INH	Infineon Technologies Austria AG, Villach, AT
72	Erfinder	IN	Schulze, Hans-Joachim, Dr., 85521 Ottobrunn, DE; Lutz, Josef, Prof., 09126 Chemnitz, DE
10	Veröffentlichte DE-Dokumente	DEPN	Originaldokument: DE102006046845A1 Recherchierbarer Text: DE102006046845A1 Originaldokument: DE102006046845B4 Recherchierbarer Text: DE102006046845B4
	Zustellanschrift		Intellectual Property Infineon Technologies AG, 80506 München, DE
	Fälligkeit	FT FG	31.10.2024 Jahresgebühr für das 19. Jahr Gebühren für Patentschutz
	Zuständige Patentabteilung		33
57	Zusammenfassung	AB	Die vorliegende Erfindung betrifft ein Halbleiterbauelement, das aufweist:$A eine Anschlusszone (11), $A eine schwächer als die Anschlusszone (11) dotierte Driftzone (12) eines ersten Leitungstyps,$A einen Bauelementübergang zwischen der Driftzone (12) und einer weiteren Bauelementzone (14), und $A eine zwischen der Driftzone (12) und der Anschlusszone angeordnete Ladungsträgerkompensationszone (13) des ersten Leitungstyps, deren Dotierungskonzentration geringer ist als die der Anschlusszone (11), deren Dotierungskonzentration wenigstens abschnittsweise in Richtung der Anschlusszone (11) von einer minimalen Dotierungskonzentration zu einer maximalen Dotierungskonzentration zunimmt, wobei die minimale Dotierungskonzentration mehr als 10↑16↑ cm↑-3↑ beträgt.
56	Entgegenhaltungen/Zitate	CT	DE000003932490C2 (DE 39 32 490 C2) DE102005009000A1 (DE 10 2005 009 000 A1) DE102004039209A1 (DE 10 2004 039 209 A1) DE000010360574A1 (DE 103 60 574 A1) US000006384431B1 (US 6 384 431 B1) US000003872494A (US 3 872 494 A) DE000010053445C2 (DE 100 53 445 C2) DE000010245091A1 (DE 102 45 091 A1)
43	Erstveröffentlichungstag	EVT	03.04.2008
	Anzahl der Bescheide		1
	Anzahl der Erwiderungen		1
	Erstmalige Übernahme in DPMAregister	EREGT	26.05.2011
	Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregister	REGT	10.01.2024 (alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)26.05.2011; 17.07.2011; 05.11.2011; 13.01.2012; 06.11.2012; 10.01.2013; 11.06.2013; 02.08.2013; 03.08.2013; 06.08.2013; 15.08.2013; 26.09.2013; 16.10.2013; 25.10.2013; 30.10.2013; 07.11.2013; 05.12.2013; 10.12.2013; 15.01.2014; 25.02.2014; 01.03.2014; 22.04.2014; 29.04.2014; 03.05.2014; 09.05.2014; 28.05.2014; 05.07.2014; 14.01.2015; 10.11.2015; 15.01.2016; 13.01.2017; 10.11.2017; 06.01.2018; 22.12.2018; 19.12.2019; 13.01.2021; 23.07.2021; 14.12.2021; 06.01.2023; 12.11.2023; 10.01.2024

Verfahrensdaten
Nr.	Verfahrensart	Verfahrensstand	Verfahrensstandstag	Erstveröffentlichungstag	Alle Details anzeigen
1	Vorverfahren	Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung	02.10.2006		Details anzeigen
2	Prüfungsverfahren	Prüfungsantrag wirksam gestellt	02.10.2006		Details anzeigen
3	Vorverfahren	Das Vorverfahren ist abgeschlossen	12.12.2006		Details anzeigen
4	Publikationen	Offenlegungsschrift	03.04.2008	03.04.2008	Details anzeigen
5	Prüfungsverfahren	Erwiderung auf Prüfungsbescheid	04.06.2010		Details anzeigen
6	Prüfungsverfahren	Erteilungsbeschluss durch Prüfungsstelle/Patentabteilung	05.08.2013		Details anzeigen
7	Klassifikationsänderung	Änderung der IPC-Hauptklasse	05.08.2013	26.09.2013	Details anzeigen
8	Publikationen	Patentschrift	05.12.2013	05.12.2013	Details anzeigen
9	Prüfungsverfahren	Patent rechtskräftig erteilt	06.03.2014	28.05.2014	Details anzeigen
10	Vertreteränderung	Änderung des Vertreters	28.04.2014		Details anzeigen