Stammdaten| INID | Kriterium | Feld | Inhalt |
|---|
| Schutzrechtsart | SART | Patent |
| Status | ST | Nicht anhängig/erloschen |
| 21 | Aktenzeichen DE | DAKZ | 10 2006 043 386.6 |
| 54 | Bezeichnung/Titel | TI | Verfahren zur Verbesserung der elektrischen Eigenschaften einer nanoelektronischen Struktur und mit dem Verfahren hergestellte Struktur, sowie deren Verwendung |
| 51 | IPC-Hauptklasse | ICM
(ICMV) | B82B 3/00 (2006.01) |
| 51 | IPC-Nebenklasse(n) | ICS
(ICSV) | B82B 1/00 (2006.01) |
| 22 | Anmeldetag DE | DAT | 11.09.2006 |
| 43 | Offenlegungstag | OT | 27.03.2008 |
| 71/73 | Anmelder/Inhaber | INH | Technische Universität Dresden, 01069 Dresden, DE |
| 72 | Erfinder | IN | Mertig, Michael, 01169 Dresden, DE; Taeger, Sebastian, 01217 Dresden, DE; Ranjan, Nitesh, 01069 Dresden, DE |
| 74 | Vertreter | VTR | Kailuweit & Uhlemann Patentanwälte Partnerschaft mbB, 01187 Dresden, DE |
| 10 | Veröffentlichte DE-Dokumente | DEPN | Originaldokument:
DE102006043386A1
Recherchierbarer Text:
DE102006043386A1 |
| Zustellanschrift | | Kailuweit & Uhlemann Patentanwälte Partnerschaft mbB, 01187 Dresden, DE |
| Zuständige Patentabteilung | | 54 |
| 57 | Zusammenfassung | AB | Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verbesserung der elektrischen Eigenschaften einer nanoelektronischen Struktur, die elektrisch leitende oder halbleitende Nanodrähte und/oder Nanoröhrchen mit einem Durchmesser von kleiner 20 nm enthält, die mit dem Verfahren hergestellte Struktur, sowie deren Verwendung.$A Das Verfahren basiert auf der dielektrophoretischen Deposition von Metallionen und umfasst folgende Schritte:$A a.) Anordnen der nanoelektronischen Struktur zwischen mindestens zwei Elektroden,$A b.) Aufbringen einer Metallsalzlösung auf die Nanodrähte und/oder Nanoröhrchen,$A c.) Anlegen einer Wechselspannung an die Elektroden, so dass sich an Fehlstellen der Nanodrähte und/oder Nanoröhrchen elektrische Felder ausbilden und wenigstens an den Fehlstellen Metall abgeschieden wird.$A Die Erfindung ist interessant zur Herstellung oder Reparatur von elektronischen Bauteilen und Schaltkreisen, sowie für die Herstellung von Sensoren für Zug-, Biegebelastung oder Druckspannung. |
| 56 | Entgegenhaltungen/Zitate | CT | [Y]
US020050126913A1 (US 2005 / 0 126 913 A1)
[Y]
US020030048619A1 (US 2003 / 0 048 619 A1)
DE000010315897A1 (DE 103 15 897 A1)
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| 56 | Entgegenhaltungen/Zitate NPL | CTNP | AUSTIN,D.W.,et.al.:The electrodeposition of metal at metal/carbon nanotube junctions.In:Chemical Physics Letters 361, (2002),S.525-529;
HASEGAWA,H.,et.al.:Fabrication of molecular nanowire using an electrochemical method.In:Thin Solid Films 438-439,S.352-355;
Hasegawa,H.,et.al.:Multiple simultaneous fabrication of molecular nanowires using nanoscale electrocrystallization.In:Thin Solid Films 499,(2006), S.289-292;
ARAI,S.,et.al.:Ni-deposited multi-walled carbon nanotubes by electrodeposition.In:Carbon 42,(2004),S.641-644;
Subramanian,A.,et.al.:Assembly of Arrays of Individual Lateral Nanotube Emitters on Nanoelectrodes.In:Proceedings of 2005 5th IEEE Conference on Nanotechnology, 11-15 July, 2005, S.362-365;
C. Stampfer et al.: “Fabrication of Single-Walled Carbon-Nanotube-Based Pressure Sensors” Nano Lett., 6, pp 233-237 (2006);
C. Cheng et al.: “Self-Assembly of Metallic Nanowires from Aqueous Solution” Nano Lett.,5, pp 175–178 (2004);
F. Yuwei et al.: “Identifying and counting point defects in carbon nanotubes”, Nat. Mat. 4, pp 906-911 (2005) |
| 43 | Erstveröffentlichungstag | EVT | 27.03.2008 |
| Anzahl der Bescheide | | 1 |
| Anzahl der Erwiderungen | | 0 |
| Erstmalige Übernahme in DPMAregister | EREGT | 26.05.2011 |
| Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregister | REGT | 30.10.2018
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)26.05.2011; 18.07.2011; 05.10.2011; 27.01.2012; 01.05.2012; 18.07.2012; 19.07.2012; 20.07.2012; 21.07.2012; 26.07.2012; 11.08.2012; 14.08.2012; 15.08.2012; 09.10.2012; 08.01.2013; 23.01.2013; 25.01.2013; 23.03.2013; 10.07.2013; 12.07.2013; 13.07.2013; 05.09.2013; 27.02.2014; 23.01.2016; 30.10.2018 |
