Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 10 2006 037 510.6 (Status: nicht anhängig/erloschen, Stand am: 4. Mai 2024)

Stammdaten
INIDKriteriumFeldInhalt
SchutzrechtsartSARTPatent
StatusSTNicht anhängig/erloschen
21Aktenzeichen DEDAKZ10 2006 037 510.6
54Bezeichnung/TitelTIVerfahren zum Herstellen einer Grabenstruktur, die Verwendung dieses Verfahrens zur Herstellung einer Halbleiteranordnung und Halbleiteranordnung mit einer Grabenstruktur
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)		 H01L 21/336 (2006.01)
51IPC-Nebenklasse(n)ICS
(ICSV)		 H01L 21/762 (2006.01), H01L 29/772 (2006.01)
22Anmeldetag DEDAT10.08.2006
43OffenlegungstagOT10.04.2008
Veröffentlichungstag der ErteilungPET10.04.2008
71/73Anmelder/InhaberINHInfineon Technologies Austria AG, Villach, AT
72ErfinderINHirler, Franz, Dr., 84424 Isen, DE; Mauder, Anton, Dr., 83059 Kolbermoor, DE; Rueb, Michael, Dr., Faak am See, AT; Schulze, Hans-Joachim, Dr., 85521 Ottobrunn, DE; Strack, Helmut, Dr., 80804 München, DE
10Veröffentlichte DE-DokumenteDEPNOriginaldokument: DE102006037510B3
Recherchierbarer Text: DE102006037510B3
Zustellanschrift Infineon Technologies AG MUC/11.2.308, 80506 München, DE
Zuständige Patentabteilung 33
57ZusammenfassungABBei einem Verfahren zur Herstellung einer Grabenstruktur wird ein erster Grabenabschnitt von einer Oberfläche eines Halbleiterkörpers ausgehend in den Halbleiterkörper hinein erzeugt. Eine Halbleiterschicht wird über der Oberfläche und über den ersten Grabenabschnitt erzeugt. Ein weiterer Grabenabschnitt wird in der Halbleiterschicht derart erzeugt, dass der erste Grabenabschnitt und der weitere Grabenabschnitt eine durchgängige Grabenstruktur bilden.$A Eine Halbleiteranordnung weist eine Grabenstruktur auf, die aus mehreren vertikalen Grabenabschnitten und mindestens einem Verbindungselement zusammengesetzt ist.
56Entgegenhaltungen/ZitateCT DE102005039331A1 (DE10 2005 039331 A1)
US000007052941B2 (US 70 52 941 B2)
43ErstveröffentlichungstagEVT10.04.2008
Anzahl der Bescheide 1
Anzahl der Erwiderungen 1
Erstmalige Übernahme in DPMAregisterEREGT26.05.2011
Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregisterREGT07.01.2024
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)26.05.2011; 19.07.2011; 06.09.2011; 28.10.2011; 04.01.2012; 05.09.2012; 20.10.2012; 29.01.2013; 10.09.2013; 30.10.2013; 06.11.2014; 08.09.2015; 05.11.2015; 03.11.2016; 17.04.2018; 24.05.2018; 07.01.2024
Verfahrensdaten
Nr. Verfahrensart Verfahrensstand Verfahrensstandstag Verfahrensstandstag aufsteigend sortiert Erstveröffentlichungstag Alle Details anzeigen
1 Vorverfahren Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung 10.08.2006   Details anzeigen
2 Prüfungsverfahren Prüfungsantrag wirksam gestellt 04.09.2006   Details anzeigen
3 Vorverfahren Das Vorverfahren ist abgeschlossen 21.11.2006   Details anzeigen
4 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 08.12.2006   Details anzeigen
5 Prüfungsverfahren Erwiderung auf Prüfungsbescheid 03.09.2007   Details anzeigen
6 Prüfungsverfahren Erteilungsbeschluss durch Prüfungsstelle/Patentabteilung 19.11.2007   Details anzeigen
7 Publikationen Patentschrift 10.04.2008 10.04.2008 Details anzeigen
8 Prüfungsverfahren Patent rechtskräftig erteilt 10.07.2008 02.10.2008 Details anzeigen
9 Verwaltungsverfahren Die Anmeldung gilt als zurückgenommen wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr/das Schutzrecht ist wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr erloschen 01.03.2018 24.05.2018 Details anzeigen