Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 10 2005 002 960.4 (Status: nicht anhängig/erloschen, Stand am: 2. Mai 2024)

Stammdaten
INIDKriteriumFeldInhalt
SchutzrechtsartSARTPatent
StatusSTNicht anhängig/erloschen
21Aktenzeichen DEDAKZ10 2005 002 960.4
54Bezeichnung/TitelTIKompositzusammensetzung für mikrogemusterte Schichten mit hohem Relaxationsvermögen, hoher chemischer Beständigkeit und mechanischer Stabilität
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)
C09D 183/04 (2006.01)
51IPC-Nebenklasse(n)ICS
(ICSV)
B29C 35/08 (2006.01)
22Anmeldetag DEDAT21.01.2005
43OffenlegungstagOT03.08.2006
71/73Anmelder/InhaberINHLeibniz-Institut für Neue Materialien gemeinnützige GmbH, 66123 Saarbrücken, DE; Canon K.K., Tokyo, JP
72ErfinderINBecker-Willinger, Carsten, 66130 Saarbrücken, DE; Kalmes, Pamela, 66589 Merchweiler, DE; Schmidt, Helmut, 66130 Saarbrücken, DE; Hino, Etsuko, Tokio/Tokyo, JP; Mitsutoshi, Noguchi, Tokio/Tokyo, JP; Yoshikazu, Saito, Tokio/Tokyo, JP; Ohkuma, Norio, Tokio/Tokyo, JP
74VertreterVTRPatentanwälte Gierlich & Pischitzis Partnerschaft mbB, 60594 Frankfurt, DE
10Veröffentlichte DE-DokumenteDEPNOriginaldokument: DE102005002960A1
Recherchierbarer Text: DE102005002960A1
Zustellanschrift Patentanwälte Gierlich & Pischitzis Partnerschaft mbB, 60594 Frankfurt, DE
Zuständige Patentabteilung 43
57ZusammenfassungABEine polymerisierbare Kompositzusammensetzung, umfassend a) ein Hydrolysat und/oder Kondensat von mindestens einem hydrolysierbaren Alkylsilan mit mindestens einer Alkylgruppe, mindestens einem hydrolysierbaren Arylsilan mit mindestens einer Arylgruppe oder mindestens einem Alkylarylsilan mit mindestens einer Alkylarylgruppe und mit mindestens einem hydrolysierbaren Silan mit einer Epoxygruppe, b) mindestens eine organische Verbindung mit mindestens zwei Epoxygruppen und c) einen kationischen Initiator, eignet sich nach Härtung zur Bereitstellung von Substraten mit einer mit Muster versehenen Beschichtung oder für mit Muster versehenen Formkörpern.$A Die erhaltenen, mit Muster versehenen Beschichtungen und Formkörper zeigen ein hohes Relaxationsvermögen, eine hohe chemische Beständigkeit und mechanische Stabilität. Mikromuster können mit hoher Formstabilität erhalten werden.
56Entgegenhaltungen/ZitateCT EP000000466025A2 (EP 0 466 025 A2)
US000006391999B1 (US 6 391 999 B1)
43ErstveröffentlichungstagEVT03.08.2006
Anzahl der Bescheide 1
Anzahl der Erwiderungen 0
Erstmalige Übernahme in DPMAregisterEREGT27.05.2011
Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregisterREGT21.10.2017
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)27.05.2011; 31.05.2011; 19.07.2011; 09.11.2011; 21.01.2012; 24.01.2012; 02.02.2012; 04.02.2012; 07.02.2012; 18.02.2012; 24.02.2012; 30.03.2012; 12.04.2012; 24.04.2012; 25.04.2012; 27.01.2013; 08.02.2013; 29.03.2013; 23.04.2013; 24.07.2013; 26.07.2013; 24.09.2013; 04.02.2014; 08.02.2014; 18.02.2014; 01.03.2014; 26.06.2014; 31.07.2015; 12.08.2015; 16.09.2015; 22.10.2015; 22.01.2016; 21.10.2017
Verfahrensdaten
Nr. Verfahrensart Verfahrensstand Verfahrensstandstag Verfahrensstandstag aufsteigend sortiert Erstveröffentlichungstag Alle Details anzeigen
1 Vorverfahren Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung 21.01.2005   Details anzeigen
2 Vorverfahren Das Vorverfahren ist abgeschlossen 19.05.2005   Details anzeigen
3 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 17.10.2005   Details anzeigen
4 Publikationen Offenlegungsschrift 03.08.2006 03.08.2006 Details anzeigen
5 Prüfungsverfahren Prüfungsantrag wirksam gestellt 19.01.2012 12.04.2012 Details anzeigen
6 Vertreteränderung Änderung des Vertreters 23.01.2012   Details anzeigen
7 Prüfungsverfahren Prüfungsbescheid 17.02.2014   Details anzeigen
8 Prüfungsverfahren Zurückweisungsbeschluss im Prüfungs-/Schutzzertifikats-/Eintragungsverfahren 30.07.2015   Details anzeigen
9 Verwaltungsverfahren Die Anmeldung gilt als zurückgenommen wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr/das Schutzrecht ist wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr erloschen 01.08.2015 22.10.2015 Details anzeigen