Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 10 2004 054 352.6 (Status: nicht anhängig/erloschen, Stand am: 2. Mai 2024)

Stammdaten
INIDKriteriumFeldInhalt
SchutzrechtsartSARTPatent
StatusSTNicht anhängig/erloschen
21Aktenzeichen DEDAKZ10 2004 054 352.6
54Bezeichnung/TitelTIVerfahren zum Strukturieren von Kondensatorstrukturen in Halbleitergräben
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)		 H01L 29/06 (2006.01)
22Anmeldetag DEDAT09.11.2004
43OffenlegungstagOT16.02.2006
Veröffentlichungstag der ErteilungPET16.02.2006
71/73Anmelder/InhaberINHInfineon Technologies AG, 81669 München, DE
72ErfinderINRüb, Michael, Dr., Faak am See, AT
10Veröffentlichte DE-DokumenteDEPNOriginaldokument: DE102004054352B3
Recherchierbarer Text: DE102004054352B3
Zustellanschrift Infineon Technologies AG Intellectual Property, 80506 München, DE
Zuständige Patentabteilung 33
57ZusammenfassungABVerfahren zum Erzeugen von Strukturen in einem Halbleitergebiet, mit den Schritten a) Erzeugen eines Grabens (2) in dem Halbleitergebiet (18), b) Füllen des Grabens mit einem Fotolack (19), c) Belichten des Fotolacks (19) mit Ionenstrahlen (20), d) Entwickeln des Fotolacks (19).$A Für die Ionenstrahlen (20) werden Energiedichte und Ionendosis so gewählt, dass der Fotolack (19) nur in bestimmten Tiefen chemisch verändert wird, so dass sich zwei Bereiche ergeben, wobei in dem ersten Bereich (22) der Fotolack von den Ionenstrahlen (20) in den bestimmten Tiefen chemisch verändert wurde, und in dem zweiten Bereich der Fotolack chemisch unverändert ist, so dass beim Entwickeln in genau einem der beiden Bereiche der Fotolack entfernt wird.
56Entgegenhaltungen/ZitateCT US000006608350B2 (US 66 08 350 B2)
US000006573558B2 (US 65 73 558 B2)
43ErstveröffentlichungstagEVT16.02.2006
Anzahl der Bescheide 0
Anzahl der Erwiderungen 0
Erstmalige Übernahme in DPMAregisterEREGT27.05.2011
Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregisterREGT22.08.2019
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)27.05.2011; 18.07.2011; 06.12.2011; 25.01.2012; 05.12.2012; 24.01.2013; 10.12.2013; 30.01.2014; 09.12.2014; 05.02.2015; 08.12.2015; 06.02.2016; 28.01.2017; 27.01.2018; 18.07.2019; 22.08.2019
Verfahrensdaten
Nr. Verfahrensart Verfahrensstand Verfahrensstandstag Verfahrensstandstag aufsteigend sortiert Erstveröffentlichungstag Alle Details anzeigen
1 Vorverfahren Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung 09.11.2004   Details anzeigen
2 Prüfungsverfahren Prüfungsantrag wirksam gestellt 24.11.2004   Details anzeigen
3 Vorverfahren Das Vorverfahren ist abgeschlossen 02.02.2005   Details anzeigen
4 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 20.06.2005   Details anzeigen
5 Prüfungsverfahren Erteilungsbeschluss durch Prüfungsstelle/Patentabteilung 13.09.2005   Details anzeigen
6 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 17.10.2005   Details anzeigen
7 Publikationen Patentschrift 16.02.2006 16.02.2006 Details anzeigen
8 Prüfungsverfahren Patent rechtskräftig erteilt 16.05.2006 10.08.2006 Details anzeigen
9 Verwaltungsverfahren Die Anmeldung gilt als zurückgenommen wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr/das Schutzrecht ist wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr erloschen 01.06.2019 22.08.2019 Details anzeigen