Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 10 2004 037 153.9 (Status: nicht anhängig/erloschen, Stand am: 20. Mai 2024)

Stammdaten
INIDKriteriumFeldInhalt
SchutzrechtsartSARTPatent
StatusSTNicht anhängig/erloschen
21Aktenzeichen DEDAKZ10 2004 037 153.9
54Bezeichnung/TitelTIVerfahren zum Herstellen eines Leistungshalbleiterbauteils
51IPC-HauptklasseICM
(ICMV)		 H01L 21/762 (2006.01)
51IPC-Nebenklasse(n)ICS
(ICSV)		 H01L 29/06 (2006.01), H01L 21/329 (2006.01), H01L 21/336 (2006.01)
22Anmeldetag DEDAT30.07.2004
43OffenlegungstagOT23.03.2006
Veröffentlichungstag der ErteilungPET15.09.2011
71/73Anmelder/InhaberINHInfineon Technologies AG, 81669 München, DE
72ErfinderINSchmidt, Gerhard, Dr., Wernberg-Wudmath, AT; Rüb, Michael, Dr., Faak am See, AT
10Veröffentlichte DE-DokumenteDEPNOriginaldokument: DE102004037153A1
Recherchierbarer Text: DE102004037153A1
Originaldokument: DE102004037153B4
Recherchierbarer Text: DE102004037153B4
Zustellanschrift Infineon Technologies AG Intellectual Property, 80506 München, DE
Zuständige Patentabteilung 33
57ZusammenfassungABVorgeschlagen wird ein Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauteils, bei welchem in einem Randbereich (20R) eines Halbleitermaterialbereichs (20) ein Randabschlussbereich (30) mit einer Grabenstruktur (40) für eine zugrunde liegende Halbleiterschaltungsanordnung (10) ausgebildet wird. Die Grabenstruktur (40) wird vom Oberflächenbereich (20a) des Halbleitermaterialbereichs (20) vertikal in den Halbleitermaterialbereich (20) hinein erstreckend ausgebildet, wobei zur Ausbildung der Grabenstruktur (40) im Rahmen eines einzelnen und einzigen Fotostrukturierungsschritts eine einzige Maske (70) verwendet und strukturiert wird.
56Entgegenhaltungen/ZitateCT DE000019954600C1 (DE 199 54 600 C1)
DE000019531369A1 (DE 195 31 369 A1)
US020040048488A1 (US2004/00 48 488 A1)
US020030047779A1 (US2003/00 47 779 A1)
US020030047776A1 (US2003/00 47 776 A1)
US000005963785A (US 59 63 785 A)
US000005311052A (US 53 11 052 A)
US000004756793A (US 47 56 793 A)
WO002004001854A2 (WO 2004/0 01 854 A2)
43ErstveröffentlichungstagEVT23.03.2006
Anzahl der Bescheide 2
Anzahl der Erwiderungen 2
Erstmalige Übernahme in DPMAregisterEREGT27.05.2011
Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregisterREGT07.01.2024
(alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)27.05.2011; 09.07.2011; 12.07.2011; 17.07.2011; 06.08.2011; 06.09.2011; 15.09.2011; 16.09.2011; 27.09.2011; 10.12.2011; 18.01.2012; 01.02.2012; 03.02.2012; 14.02.2012; 22.03.2012; 07.08.2012; 26.09.2012; 26.01.2013; 08.08.2013; 24.09.2013; 01.10.2013; 25.02.2014; 11.08.2014; 04.10.2014; 10.08.2015; 01.10.2015; 01.10.2016; 20.03.2018; 26.04.2018; 07.01.2024
Verfahrensdaten
Nr. Verfahrensart Verfahrensstand Verfahrensstandstag Verfahrensstandstag aufsteigend sortiert Erstveröffentlichungstag Alle Details anzeigen
1 Vorverfahren Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung 30.07.2004   Details anzeigen
2 Prüfungsverfahren Prüfungsantrag wirksam gestellt 30.07.2004   Details anzeigen
3 Vorverfahren Das Vorverfahren ist abgeschlossen 04.11.2004   Details anzeigen
4 Klassifikationsänderung Änderung der IPC-Hauptklasse 17.10.2005   Details anzeigen
5 Publikationen Offenlegungsschrift 23.03.2006 23.03.2006 Details anzeigen
6 Prüfungsverfahren Erwiderung auf Prüfungsbescheid 07.01.2011   Details anzeigen
7 Prüfungsverfahren Erteilungsbeschluss durch Prüfungsstelle/Patentabteilung 01.04.2011   Details anzeigen
8 Publikationen Patentschrift 15.09.2011 15.09.2011 Details anzeigen
9 Prüfungsverfahren Patent rechtskräftig erteilt 16.12.2011 22.03.2012 Details anzeigen
10 Vertreteränderung Änderung des Vertreters 13.02.2012   Details anzeigen
11 Verwaltungsverfahren Die Anmeldung gilt als zurückgenommen wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr/das Schutzrecht ist wegen Nichtzahlung der Jahresgebühr erloschen 01.02.2018 26.04.2018 Details anzeigen