Registerauskunft Patent

Aktenzeichen DE: 100 06 523.6 (Status: nicht anhängig/erloschen, Stand am: 5. Mai 2024)

Stammdaten
INID	Kriterium	Feld	Inhalt
	Schutzrechtsart	SART	Patent
	Status	ST	Nicht anhängig/erloschen
21	Aktenzeichen DE	DAKZ	100 06 523.6
54	Bezeichnung/Titel	TI	Implantationsmaske für Hochenergieionenimplantation
51	IPC-Hauptklasse	ICM (ICMV)	H01L 21/266 (2006.01)
22	Anmeldetag DE	DAT	15.02.2000
43	Offenlegungstag	OT	23.08.2001
71/73	Anmelder/Inhaber	INH	Infineon Technologies AG, 81669 München, DE
72	Erfinder	IN	Rüb, Michael, Villach, AT; Lehmann, Volker, 80689 München, DE; Tihanyi, Jenö, 85551 Kirchheim, DE
74	Vertreter	VTR	Müller Hoffmann & Partner Patentanwälte mbB, 81541 München, DE
10	Veröffentlichte DE-Dokumente	DEPN	Originaldokument: DE000010006523A1 Recherchierbarer Text: DE000010006523A1
	Zustellanschrift		Müller Hoffmann & Partner Patentanwälte mbB, 81541 München, DE
	Zuständige Patentabteilung		33
57	Zusammenfassung	AB	Die Erfindung betrifft eine wiederverwendbare Implantationsmaske (5) aus vorzugsweise Silizium mit speziell strukturierten Gräben und Löchern (2 bzw. 3), die direkt oder im Abstand von einem Devicewafer (7) vorgesehen wird, sowie ein Verfahren zum Justieren einer Weiterbehandlungsebene auf einer Implantationsebene bei einem mit einer solchen Implantationsmaske behandelten Halbleiterwafer (7).
56	Entgegenhaltungen/Zitate	CT	DE000002454714B2 (DE 24 54 714 B2) DE000019910392A1 (DE 199 10 392 A1) DE000019838263A1 (DE 198 38 263 A1) DE000019835528A1 (DE 198 35 528 A1) DE000003123949A1 (DE 31 23 949 A1) DE000069306473T2 (DE 693 06 473 T2) US000005156994A (US 51 56 994 A) US000004293374A (US 42 93 374 A) US000004256532A (US 42 56 532 A) US000004021276A (US 40 21 276 A) EP000000078336B1 (EP 00 78 336 B1) JP000S58106822A (JP 58-1 06 822 AA)
43	Erstveröffentlichungstag	EVT	23.08.2001
	Anzahl der Bescheide		5
	Anzahl der Erwiderungen		6
	Erstmalige Übernahme in DPMAregister	EREGT	26.05.2011
	Tag der (letzten) Aktualisierung in DPMAregister	REGT	20.01.2016 (alle Aktualisierungstage einblenden)(alle Aktualisierungstage ausblenden)26.05.2011; 22.01.2013; 20.01.2016

Verfahrensdaten
Nr.	Verfahrensart	Verfahrensstand	Verfahrensstandstag	Erstveröffentlichungstag	Alle Details anzeigen
1	Vorverfahren	Die Anmeldung befindet sich in der Vorprüfung	15.02.2000		Details anzeigen
2	Prüfungsverfahren	Prüfungsantrag wirksam gestellt	29.02.2000		Details anzeigen
3	Vorverfahren	Das Vorverfahren ist abgeschlossen	16.06.2000		Details anzeigen
4	Klassifikationsänderung	Änderung der IPC-Hauptklasse	05.07.2000		Details anzeigen
5	Publikationen	Offenlegungsschrift	23.08.2001	23.08.2001	Details anzeigen
6	Klassifikationsänderung	Änderung der IPC-Hauptklasse	17.10.2005		Details anzeigen
7	Prüfungsverfahren	Erwiderung auf Prüfungsbescheid	14.05.2010		Details anzeigen
8	Prüfungsverfahren	Zurückweisungsbeschluss im Prüfungs-/Schutzzertifikats-/Eintragungsverfahren	03.08.2010		Details anzeigen
9	Prüfungsverfahren	Rechtskraft des Zurückweisungsbeschlusses	06.09.2010	02.12.2010	Details anzeigen